Наше предприятие и производимое оборудование сертифицированы по ISO 9001.
     Гарантия: от 1 года. Доставка: по РФ и СНГ. Цены: ниже конкурентов в среднем на 18%

Установки контактной литографии

 
Слово литография произошло от слияния двух древнегреческих слов «λίθος» (камень) и «γράφω» (рисую), а способ печати был изобретён в Богемии Алоизием Зенефельдером в 1796 году. 
 
Оптическая литография имеет скорость экспонирования в пределах от 10 до 100 см2/с и полностью удовлетворяет необходимые требования массового производства. Этот метод переноса изображений с маски на фоторезистивный слой считается самым надёжным и проверенным.
 
Во всем оборудовании, производимом компанией «ЭРСТВАК», применяется инновационная оптическая система с довольно высоким разрешением - менее 0,5 мкм. Пользователь самостоятельно может выбирать оптимальный режим работы, в зависимости от технических требований и применяемых технологий.
 

Серия установок совмещения и экспонирования модели 200 и 200IR

 

Эти модели считаются наиболее универсальными и лёгкими в эксплуатации, с достаточно высокой производительностью для современного производства полупроводниковой продукции. Их модульный принцип конструкции способствует формированию систем с довольно гибкими конфигурациями для качественного обеспечения различных нужд потребителя.

Модели 200 и 200IR применяются для изготовления полупроводниковых приборов, оптоэлектроники, формировании столбиковых выводов, электронных дисплеев, температурные и медицинские приборы, на РСВ производстве и многое другое.

 
Особенности установок Model 200/ 200IR:
 
  1. Высокая эффективность и универсальность.
  2. Способ обработки с ближним, средним и глубоким УФ.
  3. «Уровень в уровень» совмещение и субмикронная печать.
  4. Заменяемые держатели для пластины и маски.
  5. Регулировка прижима «пластина к маске».
  6. Ультра точный держатель.
  7. Джойстик ручного управления.
  8. Антивибрационная система (4 центра регулировки, независимые).
  9. Совмещение с ИК (модель 200/IR).
  10. Двухстороннее совмещение.

 

Технические характеристики установок Model 200/200IR

 

Максимальный размер подложки

квадратные — 150×150 мм

круглые — Ø 150 мм

Максимальный размер фотошаблона

178×178 мм

Разрешение

вакуумный контакт — <1 мкм

жесткий контакт — 1 мкм

мягкий контакт — 1–2 мкм

микро-зазор (15 мкм) — 3–6 мкм

Тип излучения

ближний, средний и глубокий УФ

Мощность лампы

200, 350, 500, 1000, 2000 Вт

Равномерность освещения (6″×6″)

±5%

Интенсивность освещения (при 350 Вт)

8 мВт/см2 (при λ=365 нм) 
15 мВт/см2 (при λ=405 нм)

Способы экспонирования

мягкий контакт

жесткий контакт

вакуумный контакт

микро-зазор

Способ совмещения

Микрометрические винты

Точность совмещения

1 мкм

Обратное совмещение

Инфракрасное (модель 200IR)

Точность обратного совмещения

3–5 мкм

Точность поддержания освещенности

±2%

Время экспозиции

·        0,1–99 с (при шаге 0,1)

·        1–999 с (при шаге 1)

Антивибрационный стол

Опция

Электропитание

220 В, 50 Гц, 20 А, 1фаза

Габариты (Ш×В×Г)

790×940×640 мм

Вес

70 кг

 

Модели 800 MBA и 800 FSA

 

Эта серия полуавтоматических установок модели 800 состоит из двух видов: односторонняя - MBA и двусторонняя - FSA. Установки обеспечивают супер точное совмещение до 1-2 мкм, благодаря высокоточным видеокамерам (MBA - 2 шт., FSA - 4шт.). Установки были специально разработаны для эксплуатации в мелкосерийном производстве, а также при различных исследованиях и разработках, проводимых в экспериментальных лабораториях и университетах.
 
Держатели на этих моделях обеспечивают довольно лёгкую, быструю и безопасную загрузку и выгрузку образцов, а модель FSA дополнительно укомплектована системой моторизованного выравнивания и авторегулировкой микро-зазора между маской и пластиной.
 
Стол с антивибрационным основанием гарантирует качественное и точное совмещение и повторяемость от пластины к пластине. Маска помещена в абсолютно неподвижный держатель, её фиксация осуществляется с помощью механических зажимов и вакуумного прижима.
 
Работа оборудования настолько проста и удобна, что оператор может приступить к самостоятельной работе сразу после инструктажа, контролируя и управляя процессом при помощи компьютера и сенсорного экрана.

 

Технические характеристики 800 MBA и 800 FSA

 

Максимальный размер подложки

до 200х200 мм

Максимальный размер маски

до 9”

Мощность излучения

до 2 КВт

Контроль/управление перемещением по X, Y

+/-10 мм
 

Поворот по углу

+/-4 °

Интервал экспонирования

0-150 мкм

Регулируемая точность интервала

1 мкм

Механическое разрешение

0,1 мкм

Послойная точность совмещения

с лицевой стороны < 1 мкм
с обратной стороны < 2 мкм

Время экспонирования

1,0 – 99,9 сек с шагом 0,1 сек

Способы экспонирования   

 

мягкий контакт

жесткий контакт

вакуумный контакт

микро-зазор

Разрешение при вакуумном контакте

< 1мкм

Разрешение при мягком контакте

2 мкм

Лицевая сторона:

двойной видео микроскоп CCTV с непрерывным увеличением

от 30Х до 210Х

Объективы

Обратная сторона:

двойной видео микроскоп СCTV с электронным увеличением 2X

230Х

Диапазон сканирования

для X ± 50 мм, для Y ±25 мм

Освещение

TTL, регулируемая интенсивность

 
Система экспонирования состоит из корпуса, высокоточных зеркал, датчиков, оптического интегратора и коллимационных линз; оборудована звуковым сигналом превышения мощности.
 
Эта система может функционировать в различных режимах:
 
  1. Постоянная интенсивность.
  2. Постоянная мощность излучения.
 
Система контроля и управления (SCM) укомплектована персональным компьютером с сенсорным экраном. 
 

Модель 5000

Установки этой модели обеспечивают супер точное совмещение маски с лицевой стороной  и имеют разрешение, которое удовлетворяет самые высокие требования при производстве MEMS и полупроводниковых приборов.
 
За счёт довольно гибкого дизайна эта система может обрабатывать как круглые, так и квадратные образцы, размером до 200 мм. Её подсистема экспонирования идеально совместима с фоторезистами, имеющими чувствительность в близком, среднем и глубоком ультрафиолете.
 
Конструкция модели 5000 состоит из согласованных блоков, а технические спецификации её можно изменять в зависимости от требований производства.
 
Установка разрабатывалась в виде полностью автоматизированного инструмента, но можно, при необходимости, сконфигурировать в ручном варианте, что позволяет её использование при исследованиях, разработке и пилотном производстве широкого ряда микроприборов.
 
В отличие от других моделей здесь возможно предварительное автовыравнивание, в зависимости от интенсивности излучения возможно управление источником питания, применяется система двойных видеокамер класса CCD, а мощность ламп экспонирования доходит до 5 КВт.
 
Персональный компьютер работает с оперативной системой Windows 7, а вся конструкция не требует больших эксплуатационных затрат. Здесь задействовано программное обеспечение 4-го поколения и улучшенная подсистема автовыравнивания и пьезо-устройство управления двигателем.
 
Для переключения на разные размеры пластин необходимо всего 5 минут, установка может быть укомплектована, по желанию клиента, роботом со специальным захватом, что позволяет экономить около 5 секунд на обработку каждой пластины.
 
Эксплуатация установки довольно проста - выводите на экран меню заложенной программы, загружаете кассеты и нажимаете кнопку «Старт» и получаете высококачественную литографию.
 

Модель 8000

 

Установка совмещения и экспонирования OAI серии 8000  отличается от предыдущей модели только размерами обработки пластин до 300 мм. В остальном же она идентична модели 5000, только имеет гибкий и усовершенствованный дизайн.
 
Установка настроена на работу с операционной системой Windows 7, а затраты на её эксплуатацию тоже минимальны. Работает полностью в автоматическом режиме.
 
 

Модуль NIL (наноимпринт)

 

 

На фото представлены наноимпринт модуль и схема наноимпритной литографии.
 
NanoImprint Lithography (Наноимпринт-Литография) сокращённо NIL и все её вариации основаны на принципе механического модифицирования полимерной плёнки с помощью наношаблона (стемпера), с последующим горячим теснением или обработкой ультрафиолетом. 
 
Технический модуль легко встраивается в систему УФ экспонирования и оптического совмещения, при этом он получает полуавтоматическую способность обработки, используя фотолитографическую способность совмещения.
 
Модуль включает в себя держатель подложек для штампа и пластины для точного совмещения штампа, он обеспечивает высокоточное выполнение операций импринта. 
 
Наноконтролёр обеспечивает полуавтоматический контроль и полное управление всем процессом. Заложенная в установку программа выполняет пошаговое проведение полной операции импринта. Стартовый комплект включает стандартные рецепты и пробный штамп. 

 


Почему с нами интересно и выгодно работать

Гарантия качества

Гарантия качества

Мы занимаемся продажей оборудования только от проверенных производителей. Гарантия качества предоставляется непосредственно нашей фирмой.

Честные цены

Честные цены

Низкие цены на поставляемое оборудование обусловлены крупными партиями поставок и налаженными эксклюзивными отношениями с постоянными поставщиками.

Доставка по всей России

Доставка по всей России

Налаженное партнерство с лидерами рынка транспортных услуг: Автотрейдинг, Желдорэкспедиция, Байкал-Сервис, Деловые линии.

Качество консультаций и подбор оборудования

Качество консультаций и подбор оборудования

У нас работают высококвалифицированные специалисты с профильным образованием, это позволяет получить компетентные и качественные консультации.

Гибкая складская программа

Гибкая складская программа

При необходимости мы можем корректировать ее непосредственно под Ваши задачи. Возможность быстрого выкупа оборудования со склада в Москве.

Пунктуальность

Пунктуальность

Слаженная работа логистического отдела и отлаженные системы поставок, позволяют нам всегда поставлять оборудование в запланированный срок.