Наше предприятие и производимое оборудование сертифицированы по ISO 9001.
     Гарантия: от 1 года. Доставка: по РФ и СНГ. Цены: ниже конкурентов в среднем на 18%

Cерия PVD напылительных установок для осаждения тонких пленок

 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
Установки нанесения тонких пленок - серия PVD напылительных установок для осаждения тонких пленок physical vapour deposition осаждение тонких пленок из газовой фазы.
 

Модельный ряд установок ERSTEVAK:

 
  1. PVD 100
  2. PVD 250
  3. PVD 400
  4. PVD 600
  5. PVD 900
  6. PVD 1200
 
Чтобы заказать установку нанесения тонких пленок, свяжитесь с инеженерами компании по телефону с 9:00 до 18:00 по Москве или напишите письмо на действующий Email: info@erstvak.com
 
Далее разеберем типичные преимущества установок ERSTEVAK PVD на примере модели PVD 400.
 

Установка нанесения тонких пленок PVD 400

 
Установка обеспечивает последовательное напыление одного или нескольких металлических покрытий в сверхвысоком вакууме. Режимы напыления металлов: испарение направленным электронным пучком – электронно-лучевое испарение с помощью электронно-лучевой пушки, а также испарение резистивным нагревом металла из лодочки (держателя). При напылении металлов обеспечивается экранирование подложки от потока отраженных от испарителя электронов во избежание бомбардировки полупроводниковой пластины и внесения радиационных дефектов в приповерхностную область пластины.
 
Навигация по разделам:
 
  1. Технические характеристики PVD 400
  2. Описание PVD 400
  3. Параметры напыления
  4. Температура прогрева пластин
  5. Поворотный блок электронно-лучевого источника
  6. Система ионной очистки-подготовки поверхности подложек
  7. Экраны для сбора остатков металлов
 
 
 

Технические характеристики PVD 400

  1. Габаритные размеры: 2000х2000х2500. 
  2. Питание: 220/400 В, 50/60 Гц, 
  3. Энергопотребление: 20 кВт.
  4. Цена: 200 000 $ с НДС.

Описание PVD 400

  1. Контроль скорости напыления и толщины покрытий обеспечиваться по кварцевому датчику компании Inficon.
  2. Диаметр обрабатываемых подложек - 2 дюйма (50,8 мм), 4 дюйма (101,6 мм) и 6 дюймов 150 мм.
  3. Возможна установка подложки 8 дюймов (опция для подложкодержателя) Толщина подложки – от 0.4 мм до 1,2 мм. 

Параметры напыления

  1. Установка позволяет производить контролируемое напыление следующих металлических покрытий, в том числе из тугоплавких металлов: Au, Ti, Pt, Al, Ni, W, Cr, Ag, Pd, Zn, Mg, Cu.
  2. Скорость осаждения металлических покрытий - от 5 до 30 Ангстрем в секунду. Толщина покрытий - от 100 Ангстрем до 10000 Ангстрем.
  3. Равномерность пленки по пластине не хуже ±2 %, между пластинами не хуже ±2 %, между процессами не хуже ±3 %.

Температура прогрева пластин

Температура прогрева пластин до 450 °С (опционально).
 
При напылении металлов покрытия наносятся по нормали к поверхности подложки во избежание запыления боковых срезов фоторезиста. Отклонение угла падения материала на подложку от нормального не превышать 4 градуса по всей партии подложек диаметром 2 дюйма в одной загрузке. Установка осаждения идеально подходит для использования Lift off технологии.
 
Установка имеет режим напыления металлических покрытий, совместимый с процессом "взрывного" снятия резиста в растворителе (lift-off).
Производительность установки ERSTVAK PVD400 35 пластин в час. 
 
  1. Три источника нанесения металлов: один – электронно-лучевой и два с резистивным нагревом для нанесения металлов.
  2. Возможно опционально установка магнетронного источника в камеру для установки осаждения покрытий PVD400.

Поворотный блок электронно-лучевого источника

Поворотный блок электронно-лучевой источника выполнен из стопроцентной меди, иметь 8 позиций с тиглями для размещения испаряемых металлов. Рабочее положение испарителя соответствует оси симметрии расположения подложек на держателе, тем самым достигается высокая однородность покрытий. Конструкция поворотного блока электроннолучевой пушки предусматривает отделение позиций тиглей выступами-перегородками, предотвращающими совместно с использованием крышки блока источников загрязнение материалов в соседних тиглях. 
 
Конструкция источника и электронной пушки позволяет производить сканирование электронного пучка по площади тигля для равномерного испарения металла. Управление сканированием пучка осуществляться специальным контроллером TWISS SYSTEM.
 
Блок электронно-лучевого источника имеет систему водяного охлаждения и рассчитан на работу с максимальной рассеваемой мощностью 12 кВт для тугоплавких материалов. Тигли рассчитаны на испарение металлов Au, Ti, Pt, Al, Ni, W, Cr, Ag, Pd, Zn, Mg, Cu и многих других. Уточняйте в запросе требуемые материалы для нанесения покрытий.
 
Резистивный источник включает стойку для закрепления лодочки резистивного испарения металлов, расположение в камере обеспечивает напыление металлов с однородностью по пластине диаметром 2 дюйма не хуже 5%.

Система ионной очистки-подготовки поверхности подложек

Встроенная в установку PVD400  система ионной очисткиподготовки поверхности подложек перед напылением. Позволяет источник производить ионное ассистирование для увеличения плотности и адгезии напыляемых слоев.
 
Система измерения толщины напыляемых покрытий позволяет производить измерение толщины напыляемых металлов в процессе осаждения с контролем. Рабочим элементом являются сменные кварцевые датчики. Держатель датчиков предусматривает установку 6-и позиций для размещения датчиков в вакуумном объеме камеры и возможность смены позиций без вскрытия на атмосферу.
 
Контроллер датчика предусматривает возможность программирования рецептов осаждения многослойных покрытий и интегрирован в общую систему управления установкой через интерфейс RS232.
 
Подложкодержатель пластин в базовой версии выполнен в виде фрагмента сферы, с позициями для закрепления пластин - диаметром 4 дюйма и комплектом вставок для размещения пластин диаметром 2 дюйма.
 
  1. Держатель обеспечивает размещение 16-ти подложек диаметром 4 дюйма.
  2. Держатель обеспечивает ориентацию подложек относительно центральной позиции испарителя.
  3. Держатель пластин обеспечивает простое закрепление пластин зажимами без создания механических напряжений на пластине.
Расстояние от пластины до источника регулируемое в диапазоне 700-900 мм.

Экраны для сбора остатков металлов

В рабочей камере установлены защитные экраны для сбора остатков металлов и вакуумная камера имеет контур циркуляции воды с автоматическим/программным переключением на горячий/холодный контур.
 
Система предварительной откачки полностью безмасляная, в стандартной комплектации с спиральным насосом (опционально многоступенчатый рутс или винтовой насос). Система высокого вакуума с турбомолекулярным насосом, возможна установка с криогенным насосом –Максимальный уровень вакуума 10-8 мбар. Время достижения вакуума около 25 минут.
 
Управление процессом с помощью промышленного компьютера ERSTVAK Log. Система контроля толщины и скорости осаждения в реальном времени INFICON. Система контроля давления LEYBOLD VACUUM. Нагреватель кварцевый мощностью 2 кВт.

 


Почему с нами интересно и выгодно работать

Гарантия качества

Гарантия качества

Мы занимаемся продажей оборудования только от проверенных производителей. Гарантия качества предоставляется непосредственно нашей фирмой.

Честные цены

Честные цены

Низкие цены на поставляемое оборудование обусловлены крупными партиями поставок и налаженными эксклюзивными отношениями с постоянными поставщиками.

Доставка по всей России

Доставка по всей России

Налаженное партнерство с лидерами рынка транспортных услуг: Автотрейдинг, Желдорэкспедиция, Байкал-Сервис, Деловые линии.

Качество консультаций и подбор оборудования

Качество консультаций и подбор оборудования

У нас работают высококвалифицированные специалисты с профильным образованием, это позволяет получить компетентные и качественные консультации.

Гибкая складская программа

Гибкая складская программа

При необходимости мы можем корректировать ее непосредственно под Ваши задачи. Возможность быстрого выкупа оборудования со склада в Москве.

Пунктуальность

Пунктуальность

Слаженная работа логистического отдела и отлаженные системы поставок, позволяют нам всегда поставлять оборудование в запланированный срок.