Каталог
-
Вакуумные системы и установки
-
Вакуумные насосы
-
Воздуходувки
-
Вакуумметры
-
Вакуумная арматура
-
Течеискатели
-
Масс-спектрометры
-
Компрессоры
-
Испытательные камеры
- Вакуумные камеры
-
Элементы вакуумных систем
-
Вакуумные печи
-
Испытательные вибрационные системы
-
Криогенное оборудование
- Лиофильная сушка
-
Оборудование для микроэлектроники
-
Оборудования для нанесения тонких пленок
-
Определение центра масс
- Ультразвуковые ванны
- Установки диффузионной сварки
- Установки Электронно-лучевой сварки
-
Циркуляционные термостаты
- Гексаподы - кинематические платформы
- Гелиевые компрессоры
- Криорефрижераторы
Установка LPCVD химического осаждения из газовой фазы – оборудование, предназначенное для формирования пленок на обрабатываемом материале путем химической реакции прекурсоров на подложке в условиях пониженного давления. Технологический процесс предусматривает подачу газовой смеси в рабочую камеру, которая обеспечивает перенос летучих компонентов к подложке.
Максимальные параметры предельного давления значатся на уровне 0,1 Па, в качестве рабочих материалов выступают: Al2O3, кварц, углерод. Предельная рабочая температура оборудования составляет 1800°С, точность управления температурными изменениями соответствует ± 1°С.
- Лучшие предложения
