Оборудование
Производители
Вакуумные печи
Вакуумные печи
Вакуумная печь – это промышленная термоустановка, которая позволяет проводить обработку различных материалов (преимущественно металлов и их сплавов) в условиях повышенной температуры и низкого давления

Установка PECVD химического осаждения из газовой фазы (стимулированное плазмой)

Получить

Описание

Установка PECVD химического осаждения из газовой фазы (стимулированное плазмой) – вакуумное оборудование, предназначенное для осаждения тонких пленок из рабочей газовой среды путем стимулирования плазмой. Параметры температуры нагрева подложки составляют до 800°С, габаритные размеры подложки варьируются в пределах от 50 до 200 мм.

Равномерность нанесенного слоя обеспечивается на уровне 3%. В качестве рабочих материалов используются SiN, SiOx, TEOS-SiO2, SiON, DLC, Графен. Установки поддерживают несколько газовых линий. Процесс обработки полностью автоматизирован, данные отображаются на сенсорном дисплее.

Фото

Оформить заказ

Для оформления заказа заполните форму и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!
Введите символы с картинки*
WhatsApp