Производители

Вакуумные печи

Вакуумная печь – это промышленная термоустановка, которая позволяет проводить обработку различных материалов (преимущественно металлов и их сплавов) в условиях повышенной температуры и низкого давления

Главная
Каталог
Вакуумное оборудование
Установки плазменной обработки поверхности
Системы плазменной обработки в вакууме
Лабораторные системы плазменной обработки

Лабораторные системы плазменной обработки

Получить каталог вакуумного оборудования

Оставьте контактный номер, с вами свяжется наш инженер

Ваш телефон Получить

Лабораторные системы плазменной обработки ERSTEVAK

Подробности

Лабораторные системы плазменной обработки в вакууме ERSTEVAK EV-PLASMA-L предназначены для плазменной очистки, травлении и активации поверхности широкого спектра материалов, включая полимеры, металлы, стекло и керамику, обеспечивая оптимальные адгезионные свойства материалов. После плазменной обработки улучшается смачиваемость материла для последующего нанесения различных покрытий и других производственных процессов.

Серия EV-PLASMA-L — это высокочастотная система плазменной обработки в вакууме, которая применяется в мелкосерийном производстве, лабораторных экспериментах, научных исследованиях и медицине. В частности, системы данной серии используются для очистки наноразмерных образцов, удаления фоторезиста, подготовки поверхности образца для лабораторного исследования и т.п.

Принцип действия

Система плазменной обработки очищает поверхность, разлагая и испаряя микроскопические органические вещества, прилипшие к поверхности материала. Такой эффект модификации позволяет разрушать молекулярные связи на поверхности материала и изменять ее состав. Кроме того, плазма имеет способность улучшать поверхность материала гидроксильными группами, делая ее гидрофильной и менее склонной к отталкиванию жидкостей.

Особенности

Стабильная работа, простота эксплуатации, высокая производительность;
Прочная высококачественная камера из нержавеющей стали 316;
Низкая температура обработки, равномерная обработка полимерных материалов;
Полностью сенсорное управление, можно вручную установить время обработки;
Камера имеет прочное уплотнение, встроенные два газовых канала и регулируемый поток газа;
Широкий модельный ряд, доступны различные конфигурации камеры по требованию Заказчика.

Системы плазменной обработки в вакууме широко используются в научно-исследовательских институтах, научно-исследовательских подразделениях предприятий и при проверке мелкосерийного производства, в том числе:

Плазменная обработка органики
Плазменная активация поверхности для улучшения адгезии
Масс-спектрометрия с плазменной десорбцией (PDMS) и микрофлюидные устройства
PEEK и другие конструкционные полимеры
PTFE
Металлы
Керамика
Стекла и оптические устройства

Модель	EV-PLASMA-L1	EV-PLASMA-L2	EV-PLASMA-L3	EV-PLASMA-L8	EV-PLASMA-L9
Внешние габариты (ДхШхВ), мм	590х450х420	590х450х420	550х460х520	600х530х550	600х600х550
Масса (без насоса), кг	50	55	60	60	60
Мощность, Вт*	300	300	200	600	300
Частота	40 кГц	40 кГц	13.56 МГц	40 кГц	13.56 МГц
Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь	Автоматическое согласование полных сопротивлений
Материал камеры	Нержавеющая сталь 316
Режим разрядки	CCP
Производительность, л	2	5	5	10	10
Электрод	1 специальный электрод из алюминиевого сплава + 1 лоток для образца	1 специальный электрод из алюминиевого сплава + 1 лоток для образца	1 специальный электрод из алюминиевого сплава + 1 лоток для образца	2 специальных электрода из алюминиевого сплава + 2 лоток для образца	2 специальных электрода из алюминиевого сплава + 1 лоток для образца
Габариты камеры, мм	Ф100 (Ш) х 270 (Г)	Ф140 (Ш) х 270 (Г)	Ф140 (Ш) х 270 (Г)	200 (Д) х 270 (Г) х 200 (В)	230 (Д) х 270 (Г) х 175 (В)
Эффективный диапазон обработки, мм	80 (Ш) х 235 (Г)	140 (Ш) х 270 (Г)	130 (Ш) х 245 (Г)	180 (Ш) х 210 (Г)	208 (Ш) х 215 (Г)
Слои для обработки	1	1	1	2	3
Расстояние между монослоями, мм	40~90	65~130	65~130	55	55
Регулятор расхода газа	Высокоточный поплавковый игольчатый клапан
Интенсивность потока, мл*	0-500
Газовый канал	2 канала (поддерживаются различные технологические газы, такие как кислород, аргон, водород, азот и др.).
Вакуумметр	SMC
Скорость откачки вакуумного насоса, м3/ч**	8
Предельный вакуум, Па	1
Вакуумная линия	Трубка из нержавеющей стали и пневматический клапан
Дисплей	4.3”
Программируемый логический контроллер	Panasonic
ПО	Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Электропитание, В*	220
Размер воздушной трубки, мм	Ф6
Частота газа	99.999%
Давление газа, мПа	0.3 – 0.6
Выхлопное отверстие	KF25
Другие параметры доступны по требованию Заказчика *По запросу доступен сухой вакуумный насос

Серии EV-PLASMA-L4, -L5, -L6, -L7 — это также лабораторные системы плазменной обработки в вакууме. Их особенность заключается в том, что камера, в которую помещается обрабатываемый образец, выполнена из кварца.

Особенности

Увеличение гидрофильной группы (-OH) на поверхности графена и т.д. для улучшения смачиваемости;
Удаление масла и оксидов на поверхности металлических материалов без повреждения образца;
Масс-спектрометрическая плазменная десорбция для улучшения гидрофильности и прочности сцепления;
Предварительная плазменная обработка во время печати и склеивания пластика, значительно увеличивающая площадь смачивания;
Очистка поверхности от загрязняющих веществ перед нанесением покрытия на стекло и одновременная активация молекулярной структуры поверхности для достижения лучшей адгезии последующего процесса нанесения покрытия;
В полупроводниковой промышленности может эффективно улучшить чистоту поверхности полупроводниковых компонентов в процессе производства.

Модель	EV-PLASMA-L4	EV-PLASMA-L5			EV-PLASMA-L6		EV-PLASMA-L7
Внешние габариты (ДхШхВ), мм	510x480x540	548х588х617			755х825х1550		755х793х1500
Масса, кг	60	65			300		300
Мощность, Вт	200	300			500		500
Частота	13.56 МГц, твердотельный радиочастотный источник питания
Материал камеры	Кварц
Режим разрядки	ICP
Производительность, л	5	5			15		15
Габариты камеры (ДхГхВ), мм	Ф150 (Ш) х 280 (Г)	Ф150 (Ш) х 280 (Г)			Ф250 (Ш) х 300 (Г)		Ф250 (Ш) х 300 (Г)
Эффективный диапазон обработки, мм	145 (Ш) х 275 (Г)	145 (Ш) х 275 (Г)			245 (Ш) х 295 (Г)		245 (Ш) х 295 (Г)
Электрод	1 кварцевый лоток для образца
Слои для обработки	1		1	1		1
Расстояние между монослоями, мм	70~140		70~140	120~240		120~240
Регулятор расхода газа	Высокоточный поплавковый игольчатый клапан	Регулятор массового расхода (MFC)			Высокоточный поплавковый игольчатый клапан		Регулятор массового расхода (MFC)
Интенсивность потока, см3/мин*	0 – 500	0 – 300			0 – 500		0 – 300
Газовый канал	2 канала (поддерживаются различные технологические газы, такие как кислород, аргон, водород, азот и др.).
Вакуумметр	SMC (По запросу – Пирани)	Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани			SMC		Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Скорость откачки вакуумного насоса, м3/ч	8	8			16		16
Предельный вакуум, Па	1
Вакуумная линия	Трубка из нержавеющей стали и пневматический клапан
Дисплей	4.3”	4.3”			7”		7”
Программируемый логический контроллер	Panasonic	Panasonic			Mitsubishi		Mitsubishi
ПО	Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Электропитание, В	220
Размер воздушной трубки, мм	Ф 6
Частота газа	99.999%
Давление газа, мПа	0.3 – 0.6
Выхлопное отверстие	KF25
*Другие параметры доступны по требованию Заказчика

Оформить заказ

Для оформления заказа заполните форму, и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!

Ваше имя * Введены некорректные данные!

Ваш e-mail * Введены некорректные данные!

Ваш телефон * Введены некорректные данные!

Ваше сообщение * Введены некорректные данные!

Введите символы с картинки*

Нажимая кнопку «Отправить», я соглашаюсь с условиями Политики в отношении обработки персональных данных