Главная
Каталог
Металлообработка и поверхностная инженерия
Вакуумные технологии поверхности
Установки плазменной обработки поверхности
Системы плазменной обработки в вакууме
Лабораторная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-L5

Лабораторная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-L5

Производитель ERSTVAK
Серия EV-PLASMA-L
Напряжение питания, В 220
Страна Российская Федерация
Вакуумметр Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Скорость откачки, м³/ч 8
Дисплей 4.3"
Программное обеспечение Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Внешние габариты (Д×Ш×В), мм 548 × 588 × 617

В корзину

Описание

Характеристики

Лабораторная система плазменной обработки серии EV-PLASMA-L предназначена для очистки, активации и модификации поверхности различных материалов в условиях низкотемпературной плазмы. Оборудование применяется в научно-исследовательских лабораториях, микроэлектронике, материаловедении, оптике и других областях, где требуется контролируемая обработка поверхности.

Плазменная обработка позволяет эффективно удалять органические загрязнения, повышать адгезию покрытий и изменять свойства поверхности без механического воздействия на материал. Система подходит для работы с металлами, полимерами, стеклом, керамикой и другими материалами.

Лабораторная система обеспечивает стабильную работу в вакуумной среде и позволяет точно контролировать параметры технологического процесса. Компактное исполнение делает оборудование удобным для использования в лабораторных условиях и исследовательских задачах.

Оборудование может использоваться для подготовки образцов перед нанесением покрытий, плазменной очистки, активации поверхности и проведения различных исследовательских работ.

Производитель: ERSTVAK

Серия: EV-PLASMA-L

Напряжение питания, В: 220

Страна: Российская Федерация

Вакуумметр: Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани

Скорость откачки, м³/ч: 8

Дисплей: 4.3"

Программное обеспечение: Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная

Внешние габариты (Д×Ш×В), мм: 548 × 588 × 617

Частота, МГц: 13.56, твердотельный радиочастотный источник питания

Режим разрядки: ICP

Производительность, л: 5

Электрод: 1 кварцевый лоток для образца

Габариты камеры, мм: Ø150 × 280

Эффективный диапазон обработки (Ш × Г), мм: 145 × 275

Слои для обработки: 1

Расстояние между монослоями, мм: 70 — 140

Регулятор расхода газа: Регулятор массового расхода (MFC)

Интенсивность потока, мл: 0 — 300

Газовый канал: 2 канала (поддерживаются различные технологические газы, такие как кислород, аргон, водород, азот и др.).

Вакуумная линия: Трубка из нержавеющей стали и пневматический клапан

Размер воздушной трубки, мм: Ø6

Частота газа: 99.999%

Выхлопное отверстие: KF25

Минимальное давление газа, МПа: 0.3

Максимальное давление газа, МПа: 0.6

Программируемый логический контроллер: Panasonic

Предельный вакуум, Па: 1

Материал камеры: Кварц

Мощность, Вт: 300

Масса, кг: 65

Производитель ERSTVAK
Серия EV-PLASMA-L
Напряжение питания, В 220
Страна Российская Федерация
Вакуумметр Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Скорость откачки, м³/ч 8
Дисплей 4.3"
Программное обеспечение Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Внешние габариты (Д×Ш×В), мм 548 × 588 × 617