Источники электронов

На этой странице вы можете выбрать источники электронов — а мы оперативно поможем подобрать подходящую модель и найдем индивидуальное решение для вашей задачи.

Поможем разобраться

Больше полезных статей в нашем блоге

Наши проекты

Больше о наших проектах в блоге

Полезные материалы

Поможем разобраться

Больше полезных статей в нашем блоге

Наши проекты

Больше о наших проектах в блоге

ЭРСТВАК предлагает источники электронов для ионно-плазменных процессов, напыления и обработки поверхностей. Краткое описание серий поможет вам сориентироваться в нашем каталоге.

HFL – источники электронов с высокой плотностью потока для технологических процессов. Используются при испарении, напылении и модификации поверхности.

HFM – электронные источники для стабильной генерации пучка в вакуумных установках. Подходят для обработки материалов и тонкопленочных процессов.

LFN – низкоэнергетические источники электронов для деликатной обработки поверхностей. Применяются в процессах, где важен контролируемый режим воздействия.

LHC – источники электронов для вакуумных технологических систем. Используются при нанесении покрытий, активации поверхностей и исследовательских задачах.

MHC – источники электронов средней мощности для промышленных и лабораторных процессов. Подходят для устойчивой работы в составе вакуумных установок.

SHC – компактные источники электронов для локальной обработки и напыления. Используются в установках, где важны точность и воспроизводимость процесса.

Фильтры