- Главная
- Каталог
- Металлообработка и поверхностная инженерия
- Ионные источники
- Источники электронов
- Неиммерсионный источник электронов Kaufman & Robinson LFN 2000
Неиммерсионный источник электронов Kaufman & Robinson LFN 2000
Неиммерсионный источник электронов Kaufman & Robinson серии LFN предназначен для формирования электронного потока в процессах вакуумного напыления, обработки поверхности и научно-исследовательских работ. Оборудование применяется в вакуумных установках тонкопленочного осаждения и других технологических процессах, требующих стабильной генерации электронов.
Компактная конструкция и возможность интеграции в различные вакуумные системы делают источник удобным для использования в лабораторных и промышленных установках поверхностной инженерии.
- Производитель
- Kaufman & Robinson
- Серия
- LFN
- Страна
- США
- Рабочие газы
- Смеси
- Тип установки
- Ионный источник или произвольная установка
- Типовая энергия электронов, эВ
- <50
- Газ в источнике
- Инертные (Ar, Xe)
- Структура эмиссии
- Плазменный мост
- Регулируемые параметры
- Ток эмиссии
- Типовой вид источника
- Сеточные
- Типовые процессы
- IBSD
- Максимальный ток эмиссии, А
- 2 — 50
- Номинальная длина, дюйм
- 1.7
- Номинальная ширина
- 2.3"
- Контроллер питания
- LF12002A
- Тип конструкции
- Модульная