Ионные источники

ЭРСТВАК предлагает ионные источники Kaufman & Robinson для ионно-лучевой обработки поверхности, напыления, травления и других вакуумных технологических процессов. Краткое описание серий поможет вам сориентироваться в нашем каталоге.

KDC – сеточные ионные источники с самовыравнивающейся ионной оптикой. Применяются для очистки, модификации поверхности, осаждения и травления материалов, включая работу с химически активными газами.

eH – бессеточные ионные источники типа End-Hall, формирующие широкий пучок высокой плотности при низкой энергии ионов. Подходят для ионного ассистирования при напылении и травления, не повреждая обрабатываемый слой.

LFN – источники-нейтрализаторы на основе нити накала для компенсации объемного заряда ионного пучка. Стабилизируют обработку поверхности и применяются в процессах травления и нанесения покрытий.

LHC – источники электронов с полым катодом и обратной связью по току для точного управления эмиссией. Используются как нейтрализаторы в системах, чувствительных к накоплению заряда.

MHC – источники электронов с полым катодом повышенной устойчивости и долговечности эмиссии. Востребованы в установках напыления, травления и другой вакуумной обработки материалов.

SHC – линейка источников с полым катодом с высокой эмиссионной производительностью, до 5 А тока для старших моделей. Подходят для наиболее требовательных вакуумных технологических процессов.

HFL – источники электронов для низкоэнергетической эмиссии большой силы тока в составе ионно-плазменных систем. Применяются для нейтрализации пучка и поддержки процессов напыления и травления.

HFM – источники интенсивной электронной эмиссии в составе ионного источника или нейтрализатора. Используются в установках напыления, травления, очистки и модификации поверхности.