- Главная
- Каталог
- Металлообработка и поверхностная инженерия
- Ионные источники
- Бессеточные источники
- Бессеточный ионный источник Kaufman & Robinson eH1000
Бессеточный ионный источник Kaufman & Robinson eH1000
Источник Kaufman & Robinson серии eH предназначен для формирования стабильного ионного потока в процессах вакуумного напыления, травления, модификации поверхности и научных исследований. Оборудование применяется в установках тонкопленочного осаждения, полупроводниковом производстве, оптической промышленности и других высокотехнологичных областях.
Конструкция источника обеспечивает стабильную работу без использования традиционных сеточных элементов, что позволяет снизить вероятность загрязнения рабочей зоны и увеличить ресурс эксплуатации оборудования.
В зависимости от конфигурации источник может оснащаться катодом на основе нити накала или полым катодом, что позволяет адаптировать оборудование под особенности технологического процесса и требования к режимам работы.
Для повышения стабильности работы при интенсивных нагрузках предусмотрена возможность водяного охлаждения. Использование системы охлаждения позволяет эффективно отводить тепло и поддерживать стабильные параметры работы источника при длительной эксплуатации в составе вакуумных установок.
- Охлаждение
- Водяное (опция)
- Производитель
- Kaufman & Robinson
- Серия
- eH
- Страна
- США
- Минимальная температура окружающей среды, °С
- 0
- Катод
- НН-нить накала или ПК-полый катод
- Высота ионного источника, дюйм
- 4
- Диаметр ионного источника, дюйм
- 5.7
- Угол расходимости пучка ИИ
- > 45°
- Ток в разрядной камере ионного источника, А
- 10
- Типичные значения потока, ст. см³/мин
- 2 — 50
- Мин. напряжение в разрядной камере ионного источника, В
- 50
- Макс. напряжение в разрядной камере ионного источника, В
- 300