Ионные источники Kaufman & Robinson

На этой странице вы можете выбрать ионные источники KAUFMAN & ROBINSON — а мы оперативно поможем подобрать подходящую модель и найдем индивидуальное решение для вашей задачи.

Поможем разобраться

Больше полезных статей в нашем блоге

Наши проекты

Больше о наших проектах в блоге

Полезные материалы

Поможем разобраться

Больше полезных статей в нашем блоге

Наши проекты

Больше о наших проектах в блоге

ЭРСТВАК предлагает оборудование Kaufman & Robinson для ионно-лучевой обработки материалов в вакууме, включая модификацию поверхности и тонкопленочные процессы. Мы подготовили краткое описание серий – оно поможет вам сориентироваться в нашем каталоге.

Серии Kaufman & Robinson

HFL, HFM – ионные источники для вакуумной ионно-лучевой обработки поверхности в технологических и исследовательских установках. Подходят для задач, где ионный поток используют для уплотнения тонких пленок, активации полимерных поверхностей и плазменного травления материалов.

KDC – решеточные ионные источники для традиционной ионно-лучевой обработки в вакуумных процессах. Ключевые особенности: стабильный направленный пучок, самоцентрирующаяся ионная оптика и современная архитектура питания.

eH – безрешеточные ионные источники, формирующие высокотоковый пучок при низкой энергии ионов. Применяются для процессов, требующих высокой скорости обработки.

LFN – нейтрализаторы ионного пучка для длительной работы совместно с решеточными ионными источниками. Обеспечивают нейтрализацию пучка в течение длительных циклов и поддерживают ток эмиссии до 1 А.

MHC, LHC, SHC – электронные/нейтрализующие источники на базе полого катода. Используются совместно с ионными источниками и плазменными разрядами. Применяются как нейтрализаторы на ионно-лучевых установках или как часть ионизационного процесса, когда требуется управляемая подача электронов.

Фильтры