- Главная
- Каталог
- Металлообработка и поверхностная инженерия
- Ионные источники
- Сеточные ионные источники
- Сеточный ионный источник Kaufman & Robinson KDC100
Сеточный ионный источник Kaufman & Robinson KDC100
Сеточный ионный источник предназначен для формирования стабильного ионного потока в процессах вакуумного напыления, травления и модификации поверхности материалов. Оборудование применяется в микроэлектронике, оптической промышленности и научных исследованиях.
Конструкция источника обеспечивает стабильную работу и точное управление параметрами ионного пучка. Использование сеточной системы позволяет формировать направленный поток ионов с высокой повторяемостью технологического процесса.
Оборудование подходит для работы в составе вакуумных установок напыления, плазменной обработки и исследовательских комплексов.
- Производитель
- Kaufman & Robinson
- Серия
- KDC
- Страна
- США
- Рабочие газы
- Смеси
- Тип установки
- Вынесенный или на фланец
- Высота ионного источника, дюйм
- 9.25
- Диаметр ионного источника, дюйм
- 7.6
- Типовые процессы
- IBSD
- Контроллер питания
- KSC 1212
- Метод генерации ионов
- Удерживание плазмы постоянным магнитным полем
- Типовой размер пучка у сетки, см
- 12
- Формы пучка
- Расфокусированный
- Обрабатываемые материалы
- Полупроводники
- Типовая установка
- 8 — 36"
- Число нитевых катодов, шт
- 2
- Ионная оптика
- Опционально – коллимированная, фокусированная, дефокусированная
- Сетки ионной оптики
- Специализированы под приложения
- Центровка ионной оптики
- Самовыравнивание
- Типовой размер пучка у сетки ионной оптики, см
- 12
- Нейтрализатор
- Опционально – Sidewinder или LFN 2000
- Опции контроллера
- 4 программы-рецепта
- Максимальное напряжение на аноде (DC), В
- 100