Вакуумные насосы Рутса

ЭРСТВАК предлагает вакуумные насосы Рутса для откачки газов в промышленных и технологических установках. Краткие описания серий помогут сориентироваться в нашем каталоге.

ERVP – бустерные двухроторные насосы с предохранительным клапаном потока и устройством подачи защитного газа. Ускоряют откачку в системах с форвакуумной ступенью; применяются при вакуумной сушке, дегазации и нанесении тонких пленок.

LARA – безмасляные бустерные насосы с двумя бесконтактно вращающимися роторами. Совместно с форвакуумной ступенью откачивают большие объемы газа в вакуумных печах, упаковочных и сушильных установках.

VBP – бустерные насосы с синхронными роторами и нормированным давлением запуска. Повышают быстроту откачки при среднем и низком давлении; используются в металлургии, плазменных процессах и при нанесении покрытий.

VBPi – бустерные насосы со встроенным частотным преобразователем. Регулирование скорости вращения и плавный пуск помогают согласовать их работу с газовой нагрузкой в системах вакуумной металлургии, PVD/CVD и сублимационной сушки.

ESR – сухие безмасляные насосы EBARA с функцией idling и коррозионностойкими исполнениями. Рассчитаны на полупроводниковые процессы, включая CVD, травление, распыление и ионную имплантацию.

EV-A – компактные многоступенчатые сухие насосы EBARA с воздушным охлаждением, не требующие водяного контура. Применяются в аналитическом оборудовании, электронной микроскопии и при откачке загрузочных камер.

ESA – водоохлаждаемые сухие насосы EBARA для быстрой откачки крупных объемов, в том числе с легкими газами. Регулирование частоты вращения и встроенная диагностика востребованы в MO-CVD и полупроводниковых установках.

EV-LR – сухие насосы с механизмом типа Рутс, водяным охлаждением и лабиринтными уплотнениями. Обеспечивают форвакуумную откачку без масла в рабочей части; применяются в PVD-процессах, фотоэлектрических системах и загрузочных камерах.

EV-MR – сухие насосы с интегрированной конструкцией типа Рутс и регулированием подачи азота и температуры. Рассчитаны на процессы травления оксида, кремния и металла в полупроводниковом производстве.