Производители

Вакуумные печи

Вакуумная печь – это промышленная термоустановка, которая позволяет проводить обработку различных материалов (преимущественно металлов и их сплавов) в условиях повышенной температуры и низкого давления

Главная
Каталог
Вакуумное оборудование
Установки плазменной обработки поверхности
Системы плазменной обработки в вакууме
Промышленные системы плазменной обработки

Промышленные системы плазменной обработки

Получить каталог вакуумного оборудования

Оставьте контактный номер, с вами свяжется наш инженер

Ваш телефон Получить

Промышленные системы плазменной обработки ERSTEVAK

Подробности

Промышленные системы плазменной обработки ERSTEVAK EV-PLASMA-I предназначены для очистки металлических, полимерных и керамических поверхностей, удаления остатков металла с поверхности гибридных схем и печатных плат, дезинфекции и очистки поверхности биомедицинских материалов, очистки кремниевых пластин и т.п.

Системы широко используются в научно-исследовательских институтах, научно-исследовательских подразделениях предприятий и при проверке мелкосерийного производства, в том числе:

Плазменная очистка органики
Плазменная активация поверхности для улучшения адгезии
Образование новых функциональных групп и улучшение гидрофильности
Очистка пластин, удаление фоторезиста
Оксид индия-олова (ITO) / Политетрафторэтилен (FTO) / Стекло / Керамика / Металл
Полипропилен (PP) / Полиэтилентерефталат (PET) / Поливинилхлорид (PVC) / PEEK / Поликарбонаты (PC)

Особенности

Высокая мощность, большая камера, высокая плотность и стабильность, подходит для крупномасштабного непрерывного производства;
Многофункциональная система безопасности;
Два газовых канала являются стандартными, поддерживают различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот, тетрафторид углерода и т.п.
Управление осуществляется через программируемый логический контроллер (PLC), а также с помощью сенсорного экрана;
Размер полости и количество слоев можно настроить в соответствии с требованиями Заказчика.

Модель	EV-PLASMA-I1	EV-PLASMA-I3	EV-PLASMA-I5	EV-PLASMA-I7	EV-PLASMA-I9	EV-PLASMA-I11
Внешние габариты (ДхШхВ), мм	650 x 575 x 635	630 x 730 x 1430	903 x 983 x 1753	930 x 990 x 1754	1300 x 1190 x 1790	1450 x 1260 x 1720
Масса, кг	85	180	350	400	500	600
Мощность, Вт	1000	1000	2000	2000	5000	5000
Частота, кГц	40
Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь	Автоматическое согласование полных сопротивлений
Материал камеры	Нержавеющая сталь 316	Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости
Режим разрядки	CCP	CCP и RIE	CCP и RIE	CCP и RIE	CCP и RIE	CCP и RIE
Производительность, л	22.8	30	66	110	165	210
Габариты камеры (ДхГхВ), мм	380 x 375 x 160	300 x 345 x 300	400 x 450 x 370	500 x 500 x 485	500 x 600 x 500	600 x 600 x 600
Эффективный диапазон обработки, мм	305 (Ш) x 305 (Г)	250 (Ш) x 250 (Г)	370 (Ш) x 370 (Г)	458 (Ш) x 420 (Г)	508 (Ш) x 520 (Г)	560 (Ш) x 520 (Г)
Слои для обработки*	1	4	6	6	8	8
Расстояние между монослоями, мм	100	34	45	65.5	51	55
Электрод	1 специальный электрод из алюминиевого сплава + 1 лоток для образца	Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью
Регулятор расхода газа	Высокоточный поплавковый игольчатый клапан	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)
Интенсивность потока, см3/мин*	0-500	0-300	0-300	0-300	0-500	0-500
Газовый канал	2 канала (Опционально – 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).
Вакуумметр	Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Скорость откачки вакуумного насоса, м3/ч**	16	16	60	60	Насос Рутса + 60	Насос Рутса + 60
Предельный вакуум, Па	1
Дисплей	7”
Программируемый логический контроллер	Panasonic
ПО	Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Электропитание***	220 В	220 В	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)
Размер воздушной трубки, мм	Ф8
Частота газа	99.999%
Давление газа, мПа	0.3 – 0.6	0.3 – 0.6	0.6 – 0.8	0.6 – 0.8	0.6 – 0.8	0.6 – 0.8
Выхлопное отверстие	KF25	KF25	KF25	KF40	KF40	KF25
Настраивается в соответствии с требованиями Заказчика По запросу доступен сухой вакуумный насос **Другие параметры доступны по требованию Заказчика

Модель	EV-PLASMA-I2	EV-PLASMA-I4	EV-PLASMA-I6	EV-PLASMA-I8	EV-PLASMA-I10	EV-PLASMA-I12
Внешние габариты (ДхШхВ), мм	650 x 575 x 635	630 x 730 x 1430	903 x 983 x 1753	930 x 990 x 1754	1300 x 1190 x 1790	1450 x 1260 x 1720
Масса, кг	85	180	350	400	500	600
Мощность, Вт	300	300	600	1000	1200	1200
Частота, МГц	13.56
Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь	Автоматическое согласование полных сопротивлений
Материал камеры	Нержавеющая сталь 316	Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости
Режим разрядки	CCP	CCP и RIE	CCP и RIE	CCP и RIE	CCP и RIE	CCP и RIE
Производительность, л	22.8	30	66	110	165	210
Габариты камеры (ДхГхВ), мм	380 x 375 x 160	300 x 345 x 300	400 x 450 x 370	500 x 500 x 485	500 x 600 x 500	600 x 600 x 600
Эффективный диапазон обработки, мм	305 (Ш) x 305 (Г)	250 (Ш) x 250 (Г)	370 (Ш) x 370 (Г)	458 (Ш) x 420 (Г)	508 (Ш) x 520 (Г)	560 (Ш) x 520 (Г)
Слои для обработки*	1	4	6	6	8	8
Расстояние между монослоями, мм	100	34	45	65.5	51	55
Электрод	1 специальный электрод из алюминиевого сплава + 1 лоток для образца	Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью
Регулятор расхода газа	Высокоточный поплавковый игольчатый клапан	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)	Регулятор массового расхода (MFC)
Интенсивность потока, см3/мин*	0-500	0-300	0-300	0-300	0-500	0-500
Газовый канал	2 канала (Опционально – 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).
Вакуумметр	Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Предельный вакуум, Па	2
Скорость откачки вакуумного насоса, м3/ч**	16	16	60	60	Насос Рутса + 60	Насос Рутса + 60
Дисплей	7”
Программируемый логический контроллер	Panasonic
ПО	Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Электропитание***	220 В	220 В	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)	380 В переменного тока, 50/60 Гц (трехфазная система, 100A)
Размер воздушной трубки, мм	Ф8
Частота газа	99.999%
Давление газа, мПа	0.3 – 0.6	0.3 – 0.6	0.6 – 0.8	0.6 – 0.8	0.6 – 0.8	0.6 – 0.8
Выхлопное отверстие	KF25	KF25	KF25	KF40	KF40	KF25
Настраивается в соответствии с требованиями Заказчика По запросу доступен сухой вакуумный насос **Другие параметры доступны по требованию Заказчика

Оформить заказ

Для оформления заказа заполните форму, и наш инженер свяжется с вами в ближайшее время!

Ваше имя * Введены некорректные данные!

Ваш e-mail * Введены некорректные данные!

Ваш телефон * Введены некорректные данные!

Ваше сообщение * Введены некорректные данные!

Введите символы с картинки*

Нажимая кнопку «Отправить», я соглашаюсь с условиями Политики в отношении обработки персональных данных