Главная
Каталог
Металлообработка и поверхностная инженерия
Вакуумные технологии поверхности
Установки плазменной обработки поверхности
Системы плазменной обработки в вакууме
Промышленная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-I11

Промышленная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-I11

product-card

Электропитание AC 380 В, 50/60 Гц (100A)
Масса, кг 600
Производитель ERSTVAK
Серия EV-PLASMA-I
Страна Российская Федерация
Вакуумметр Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Дисплей 7"
Программное обеспечение Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Внешние габариты (Д×Ш×В), мм 1450 × 1260 × 1720

В корзину

Описание

Характеристики

Промышленная система плазменной обработки серии EV-PLASMA-I предназначена для очистки, активации и модификации поверхности различных материалов в условиях низкотемпературной плазмы. Оборудование применяется на производственных предприятиях, в микроэлектронике, приборостроении, оптической промышленности и других отраслях, где требуется стабильная и контролируемая обработка поверхности.

Плазменная обработка позволяет эффективно удалять органические загрязнения, повышать адгезию покрытий и изменять свойства поверхности без механического воздействия на материал.Система подходит для работы с металлами, полимерами, стеклом, керамикой и другими материалами.

Промышленная система обеспечивает стабильную работу в вакуумной среде и позволяет точно контролировать параметры технологического процесса при длительной эксплуатации оборудования.Конструкция установки рассчитана на интенсивную работу в условиях промышленного производства.

Оборудование может использоваться для подготовки изделий перед нанесением покрытий, плазменной очистки, активации поверхности и выполнения различных технологических процессов поверхностной обработки.

Электропитание: AC 380 В, 50/60 Гц (100A)

Масса, кг: 600

Производитель: ERSTVAK

Серия: EV-PLASMA-I

Страна: Российская Федерация

Вакуумметр: Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани

Дисплей: 7"

Программное обеспечение: Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная

Внешние габариты (Д×Ш×В), мм: 1450 × 1260 × 1720

Частота, кГц: 40

Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь: Автоматическое согласование полных сопротивлений

Режим разрядки: RIE

Производительность, л: 210

Электрод: Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью

Габариты камеры, мм: 600 × 600 × 600

Эффективный диапазон обработки (Ш × Г), мм: 560 × 520

Слои для обработки: 8

Расстояние между монослоями, мм: 55

Регулятор расхода газа: Регулятор массового расхода (MFC

Интенсивность потока, мл: 0 — 500

Газовый канал: 2 канала (Опционально — 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).

Частота газа: 99.999%

Выхлопное отверстие: KF25

Минимальное давление газа, МПа: 0.6

Максимальное давление газа, МПа: 0.8

Программируемый логический контроллер: Panasonic

Предельный вакуум, Па: 1

Материал камеры: Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости

Мощность, Вт: 5000

Электропитание, фаза: 3

Электропитание AC 380 В, 50/60 Гц (100A)
Масса, кг 600
Производитель ERSTVAK
Серия EV-PLASMA-I
Страна Российская Федерация
Вакуумметр Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Дисплей 7"
Программное обеспечение Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Внешние габариты (Д×Ш×В), мм 1450 × 1260 × 1720