Главная
Каталог
Металлообработка и поверхностная инженерия
Вакуумные технологии поверхности
Установки плазменной обработки поверхности
Системы плазменной обработки в вакууме
Промышленная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-I4

Промышленная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-I4

product-card

Скорость откачки, м³/ч 16
Масса, кг 180
Производитель ERSTVAK
Серия EV-PLASMA-I
Страна Российская Федерация
Вакуумметр Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Дисплей 7"
Программное обеспечение Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Внешние габариты (Д×Ш×В), мм 630 × 730 × 1430

В корзину

Описание

Характеристики

Промышленная система плазменной обработки серии EV-PLASMA-I предназначена для очистки, активации и модификации поверхности различных материалов в условиях низкотемпературной плазмы. Оборудование применяется на производственных предприятиях, в микроэлектронике, приборостроении, оптической промышленности и других отраслях, где требуется стабильная и контролируемая обработка поверхности.

Плазменная обработка позволяет эффективно удалять органические загрязнения, повышать адгезию покрытий и изменять свойства поверхности без механического воздействия на материал.Система подходит для работы с металлами, полимерами, стеклом, керамикой и другими материалами.

Промышленная система обеспечивает стабильную работу в вакуумной среде и позволяет точно контролировать параметры технологического процесса при длительной эксплуатации оборудования.Конструкция установки рассчитана на интенсивную работу в условиях промышленного производства.

Оборудование может использоваться для подготовки изделий перед нанесением покрытий, плазменной очистки, активации поверхности и выполнения различных технологических процессов поверхностной обработки.

Скорость откачки, м³/ч: 16

Масса, кг: 180

Производитель: ERSTVAK

Серия: EV-PLASMA-I

Страна: Российская Федерация

Вакуумметр: Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани

Дисплей: 7"

Программное обеспечение: Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная

Внешние габариты (Д×Ш×В), мм: 630 × 730 × 1430

Частота, МГц: 13.56, твердотельный радиочастотный источник питания

Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь: Автоматическое согласование полных сопротивлений

Режим разрядки: RIE

Производительность, л: 30

Электрод: Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью

Габариты камеры, мм: 300 × 345 × 300

Эффективный диапазон обработки (Ш × Г), мм: 250 × 250

Слои для обработки: 4

Расстояние между монослоями, мм: 34

Регулятор расхода газа: Регулятор массового расхода (MFC

Интенсивность потока, мл: 0 — 300

Газовый канал: 2 канала (Опционально — 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).

Частота газа: 99.999%

Выхлопное отверстие: KF25

Минимальное давление газа, МПа: 0.3

Максимальное давление газа, МПа: 0.6

Программируемый логический контроллер: Panasonic

Предельный вакуум, Па: 2

Материал камеры: Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости

Мощность, Вт: 300

Скорость откачки, м³/ч 16
Масса, кг 180
Производитель ERSTVAK
Серия EV-PLASMA-I
Страна Российская Федерация
Вакуумметр Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
Дисплей 7"
Программное обеспечение Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
Внешние габариты (Д×Ш×В), мм 630 × 730 × 1430