Бессеточные источники Kaufman & Robinson
Производитель: Kaufman & Robinson, Inc.
Высота ионного источника: 6.0"
Диаметр ионного источника: 9.7"
Угол расходимости пучка ИИ: > 45°
Производитель: Kaufman & Robinson, Inc.
Высота ионного источника: 6.0"
Диаметр ионного источника: 9.7"
Угол расходимости пучка ИИ: > 45°
Производитель: Kaufman & Robinson, Inc.
Высота ионного источника: 6.0"
Диаметр ионного источника: 9.7"
Угол расходимости пучка ИИ: > 45°
Производитель: Kaufman & Robinson, Inc.
Высота ионного источника: 4.0"
Диаметр ионного источника: 5.7"
Угол расходимости пучка ИИ: > 45°
Производитель: Kaufman & Robinson, Inc.
Высота ионного источника: 4.0"
Диаметр ионного источника: 5.7"
Угол расходимости пучка ИИ: > 45°
Производитель: Kaufman & Robinson, Inc.
Высота ионного источника: 4.0"
Диаметр ионного источника: 5.7"
Угол расходимости пучка ИИ: > 45°
Описание
Ионные источники End-Hall производства компании Kaufman & Robinson предназначены для формирования ионных пучков с высокой плотностью и низкой энергией. Благодаря высокой плотности ионных потоков, они способны обеспечить эффективное ионное ассистирование даже при высокоскоростных процессах вакуумного напыления, тогда как низкая энергия ионов предотвращает повреждения подложек и напыляемых слоев.
Технология End-Hall (eH) в линейке безрешеточных плазменных источников ионов позволяет точно генерировать и регулировать параметры различных типов ионов, включая их энергию, химическую активность, плотность тока и траекторию.
Ионные источники из серии eH предназначены для работы с широким спектром газов, таких как аргон (Ar), кислород (O2), азот (N2), водород (H2) и различные органические прекурсы.
Особенности
- Компактные низкопрофильные модели серии eH доступны в различных размерах, чтобы удовлетворить требования как исследовательских проектов, так и требования высокопроизводительного производства
- Запатентованная модульная конструкция анода делает обслуживание, сборку и разборку моделей более простыми, при этом обеспечивая их высокую производительность
- Каждая модель может быть дооснащена дополнительными компонентами для удовлетворения специфических требований обработки и условий установки
- Все модели ионных источников легко интегрируются как в существующие вакуумные системы, так и в новые системы ОЕМ
|
Модель/ |
eH200 |
eH400 |
eH1000 |
eH1000xO2 |
eH2000 |
eH3000 |
|
Тип катода (нейтрализатора) |
НН или ПК |
НН или ПК |
НН или ПК |
НН или ПК |
НН или ПК
ПК |
ПК |
|
Диаметр разрядной камеры |
~ 2 см |
~ 4 см |
|
|
|
|
|
Высота ионного источника |
2.0" |
3.0" |
4.0" |
4.0" |
4.0" |
6.0" |
|
Диаметр ионного источника |
2.5" |
3.7" |
5.7" |
5.7" |
5.7" |
9.7" |
|
Угол расходимости пучка ионного источника |
> 45° |
> 45° |
> 45° |
> 45° |
> 45° |
> 45° |
|
Напряжение в разрядной камере ионного источника |
30 – 300 В |
50 – 300 В |
50 – 300 В |
100 – 300 В |
50 – 300 В |
50 – 250 В
50 – 300 В |
|
Ток в разрядной камере ионного источника |
2А |
5 А |
10 A |
10 А |
10 A |
20 A |
|
Типичные значения потока, ст. см3/мин |
1 – 15 |
2 – 25 |
2 – 50 |
2 – 50 |
2 – 75 |
5 – 100 |
|
Водяное охлаждение |
нет |
опционально |
опционально |
опционально |
да |
опционально |