Производитель: Cryo H&I
Время охлаждения, мин: 60
Производитель: Cryo H&I
Время охлаждения, мин: 30
Производитель: Cryo H&I
Время охлаждения, мин: 120
Производитель: Cryo H&I
Время охлаждения, мин: 120
Производитель: Cryo H&I
Производительность по водороду, л/с: 60 000
Скорость откачки по аргону, л/с: 28 000
Скорость откачки по парам воды, л/с: 90 000
Время охлаждения, мин: 160
Производитель: Cryo H&I
Производительность по водороду, л/с: 43 000
Скорость откачки по аргону, л/с: 23 000
Скорость откачки по парам воды, л/с: 70 000
Время охлаждения, мин: 200
Насосы Cryo(GVT) серии HPM/HPS/HPG
Скорость откачки: от 1 700 до 14 000 л/с
Предельное остаточное давление: до 1х10-9 мбар
Насосы серии HPM — сертифицированные (CE и SEMI) высокопроизводительные крионасосы, предназначенные для использования в полупроводниковой промышленности, производстве светодиодов, медицинской диагностике, анализе состояния поверхностей носителей, а также для различных исследований в высоком вакууме. Насосы спроектированы так, чтобы занять минимум рабочего пространства, что делает установки легкими в обслуживании.
Данный тип насосов имеет лучшее отношение скорости откачки к затратам на технологическое обслуживание. Криогенные насосы предлагаются в двух различных исполнениях — стандартном и с быстрой регенерацией («Q»). При быстрой регенерации нагревается только одна из ступеней откачки насоса, тем самым увеличивая сорбционную емкость насоса на такие газы, как водород, гелий и аргон. Полную регенерацию насоса при этом нужно проводить после каждых 10 – 15 циклов быстрой регенерации.
Особенности и преимущества
- Полностью безмасляный процесс откачки для высокопроизводительных систем
- Высокая скорость откачки по парам воды
- Достижение максимальных скоростей для входного высоковакуумного фланца определенных размеров
- Высокая надежность и срок службы
- Специальная компактная версия насоса «L»
Применение
- Обработка поверхностей• Установки имитации космического пространства
- Установки для осаждения распылением
- Ионные источники и электронно-лучевые испарители
- Производство полупроводников и микроэлектроники
- Исследования в области ядерной физики и ускорителей заряженных частиц