Промышленная система плазменной обработки ERSTEVAK EV-PLASMA-I4

Характеристики

• Предельный вакуум, Па
  2
• Вакуумметр
  Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани
• Масса, кг
  180
• Скорость откачки, м³/ч
  16
• Мощность, Вт
  300
• Электропитание
  220 В
• Материал камеры
  Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости
• Дисплей
  7"
• Программное обеспечение
  Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная
• Внешние габариты (Д×Ш×В), мм
  630 × 730 × 1430
• Частота, МГц
  13.56, твердотельный радиочастотный источник питания
• Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь
  Автоматическое согласование полных сопротивлений
• Режим разрядки
  CCP, RIE
• Производительность, л
  30
• Электрод
  Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью
• Габариты камеры, мм
  300 × 345 × 300
• Эффективный диапазон обработки (Ш × Г), мм
  250 × 250
• Слои для обработки
  4
• Расстояние между монослоями, мм
  34
• Регулятор расхода газа
  Регулятор массового расхода (MFC
• Интенсивность потока, мл
  0 — 300
• Газовый канал
  2 канала (Опционально — 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).
• Программируемый логический контроллер
  Panasonic
• Частота газа
  99.999%
• Давление газа, МПа
  0.3 — 0.6
• Выхлопное отверстие
  KF25