Промышленная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-I4

Производитель

ERSTVAK

Серия

EV-PLASMA-I

Напряжение питания, В

220

Страна

Российская Федерация

Вакуумметр

Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани

Скорость откачки, м³/ч

16

Дисплей

7"

Программное обеспечение

Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная

Внешние габариты (Д×Ш×В), мм

630 × 730 × 1430

Частота, МГц

13.56, твердотельный радиочастотный источник питания

Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь

Автоматическое согласование полных сопротивлений

Режим разрядки

RIE

Производительность, л

30

Электрод

Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью

Габариты камеры, мм

300 × 345 × 300

Эффективный диапазон обработки (Ш × Г), мм

250 × 250

Слои для обработки

4

Расстояние между монослоями, мм

34

Регулятор расхода газа

Регулятор массового расхода (MFC

Интенсивность потока, мл

0 — 300

Газовый канал

2 канала (Опционально — 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).

Частота газа

99.999%

Выхлопное отверстие

KF25

Минимальное давление газа, МПа

0.3

Максимальное давление газа, МПа

0.6

Программируемый логический контроллер

Panasonic

Предельный вакуум, Па

2

Материал камеры

Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости

Мощность, Вт

300

Масса, кг

180