Промышленная система плазменной обработки ERSTVAK EV-PLASMA-I10

Производитель

ERSTVAK

Серия

EV-PLASMA-I

Страна

Российская Федерация

Электропитание

AC 380 В, 50/60 Гц (100A)

Вакуумметр

Высокоточный резистивный вакуумметр Пирани

Скорость откачки, м³/ч

Насос Рутса + 60

Дисплей

7"

Программное обеспечение

Независимая запатентованная система управления плазмой, точная и многоязычная

Внешние габариты (Д×Ш×В), мм

1300 × 1190 × 1790

Частота, МГц

13.56, твердотельный радиочастотный источник питания

Радиационно-стойкий высокочастотный согласователь

Автоматическое согласование полных сопротивлений

Режим разрядки

RIE

Производительность, л

165

Электрод

Специальный электрод из алюминиевого сплава с высокой проводимостью

Габариты камеры, мм

500 × 600 × 500

Эффективный диапазон обработки (Ш × Г), мм

508 × 520

Слои для обработки

8

Расстояние между монослоями, мм

51

Регулятор расхода газа

Регулятор массового расхода (MFC

Интенсивность потока, мл

0 — 500

Газовый канал

2 канала (Опционально — 3 / 4 / 5 / 6) (поддерживается различный технологический газ, такой как кислород, аргон, водород, азот и др.).

Частота газа

99.999%

Выхлопное отверстие

KF40

Минимальное давление газа, МПа

0.6

Максимальное давление газа, МПа

0.8

Программируемый логический контроллер

Panasonic

Предельный вакуум, Па

2

Материал камеры

Нержавеющая сталь 316/8K зеркальная поверхность для обеспечения чистоты полости

Мощность, Вт

1200

Электропитание, фаза

3

Масса, кг

500