- Главная
- Каталог
- Металлообработка и поверхностная инженерия
- Ионные источники
- Источники электронов
- Источники электронов Kaufman & Robinson
Источники электронов Kaufman & Robinson
На этой странице вы можете выбрать источники электронов KAUFMAN & ROBINSON — а мы оперативно поможем подобрать подходящую модель и найдем индивидуальное решение для вашей задачи.
ЭРСТВАК предлагает источники электронов для вакуумных процессов, напыления и обработки материалов. Краткое описание серий поможет вам сориентироваться в нашем каталоге.
HFL – источники электронов для процессов с высокой плотностью электронного потока. Подходят для испарения материалов, нанесения покрытий и модификации поверхностей.
HFM – электронные источники для стабильной работы в технологических установках. Используются при вакуумном напылении и исследовательских процессах.
LFN – низкоэнергетические источники для аккуратного воздействия на поверхность. Применяются в задачах, где требуется мягкая и управляемая обработка.
LHC – источники электронов для формирования пучка в вакуумной среде. Подходят для процессов нанесения покрытий и подготовки материалов.
MHC – источники средней мощности для лабораторных и производственных установок. Обеспечивают устойчивый режим работы при обработке изделий.
SHC – компактные источники электронов для локальных процессов. Используются в установках с ограниченным пространством и точными требованиями к пучку.
Фильтры
ЭРСТВАК предлагает источники электронов для вакуумных процессов, напыления и обработки материалов. Краткое описание серий поможет вам сориентироваться в нашем каталоге.
HFL – источники электронов для процессов с высокой плотностью электронного потока. Подходят для испарения материалов, нанесения покрытий и модификации поверхностей.
HFM – электронные источники для стабильной работы в технологических установках. Используются при вакуумном напылении и исследовательских процессах.
LFN – низкоэнергетические источники для аккуратного воздействия на поверхность. Применяются в задачах, где требуется мягкая и управляемая обработка.
LHC – источники электронов для формирования пучка в вакуумной среде. Подходят для процессов нанесения покрытий и подготовки материалов.
MHC – источники средней мощности для лабораторных и производственных установок. Обеспечивают устойчивый режим работы при обработке изделий.
SHC – компактные источники электронов для локальных процессов. Используются в установках с ограниченным пространством и точными требованиями к пучку.
- Производитель: Kaufman & Robinson
- Серия: HFL
- Страна: США
- Производитель: Kaufman & Robinson
- Серия: HFM
- Страна: США
- Производитель: Kaufman & Robinson
- Серия: SHC
- Страна: США
- Производитель: Kaufman & Robinson
- Серия: MHC
- Страна: США
- Производитель: Kaufman & Robinson
- Серия: LHC
- Страна: США
- Производитель: Kaufman & Robinson
- Серия: LFN
- Страна: США
Об источниках электронов Kaufman & Robinson
Источники электронов используются как нейтрализаторы или катоды для управления производством ионных и плазменных пучков.
Компания Kaufman & Robinson предлагает разнообразные модели источников электронов, отличающиеся низкой энергией и высоким током. В их ассортимент входят различные конфигурации, начиная от простейших термоэлектронных иммерсионных нитей и заканчивая неиммерсионными эмиттерами с полым катодом. Эти источники работают с инертными или реактивными газами, а их эмиссионный ток точно контролируется и измеряется с помощью контура обратной связи по току.
Благодаря своей точности и надежности, источники электронов находят широкое применение в устройствах, чувствительных к статическому электричеству, а также в среде, содержащей диэлектрические материалы.
