Лабораторные системы плазменной обработки

О лабораторных системах плазменной обработки

Лабораторные системы плазменной обработки в вакууме ERSTVAK EV-PLASMA-L предназначены для плазменной очистки, травлении и активации поверхности широкого спектра материалов, включая полимеры, металлы, стекло и керамику, обеспечивая оптимальные адгезионные свойства материалов. После плазменной обработки улучшается смачиваемость материла для последующего нанесения различных покрытий и других производственных процессов.

Серия EV-PLASMA-L — это высокочастотная система плазменной обработки в вакууме, которая применяется в мелкосерийном производстве, лабораторных экспериментах, научных исследованиях и медицине. В частности, системы данной серии используются для очистки наноразмерных образцов, удаления фоторезиста, подготовки поверхности образца для лабораторного исследования и т.п.

Принцип действия

Система плазменной обработки очищает поверхность, разлагая и испаряя микроскопические органические вещества, прилипшие к поверхности материала. Такой эффект модификации позволяет разрушать молекулярные связи на поверхности материала и изменять ее состав. Кроме того, плазма имеет способность улучшать поверхность материала гидроксильными группами, делая ее гидрофильной и менее склонной к отталкиванию жидкостей.

Особенности

• Стабильная работа, простота эксплуатации, высокая производительность;
• Прочная высококачественная камера из нержавеющей стали 316;
• Низкая температура обработки, равномерная обработка полимерных материалов;
• Полностью сенсорное управление, можно вручную установить время обработки;
• Камера имеет прочное уплотнение, встроенные два газовых канала и регулируемый поток газа;
• Широкий модельный ряд, доступны различные конфигурации камеры по требованию Заказчика.

Системы плазменной обработки в вакууме широко используются в научно-исследовательских институтах, научно-исследовательских подразделениях предприятий и при проверке мелкосерийного производства, включая:

• Плазменную обработку органики.
• Плазменную активацию поверхности для улучшения адгезии.
• Масс-спектрометрию с плазменной десорбцией (PDMS) и микрофлюидные устройства.
• PEEK и другие конструкционные полимеры.
• PTFE.
• Металлы.
• Керамику.
• Стекла и оптические устройства.

Серии EV-PLASMA-L4, -L5, -L6, -L7 — это также лабораторные системы плазменной обработки в вакууме. Их особенность заключается в том, что камера, в которую помещается обрабатываемый образец, выполнена из кварца.

Особенности

• Увеличение гидрофильной группы (-OH) на поверхности графена и т.д. для улучшения смачиваемости;
• Удаление масла и оксидов на поверхности металлических материалов без повреждения образца;
• Масс-спектрометрическая плазменная десорбция для улучшения гидрофильности и прочности сцепления;
• Предварительная плазменная обработка во время печати и склеивания пластика, значительно увеличивающая площадь смачивания;
• Очистка поверхности от загрязняющих веществ перед нанесением покрытия на стекло и одновременная активация молекулярной структуры поверхности для достижения лучшей адгезии последующего процесса нанесения покрытия;
• В полупроводниковой промышленности может эффективно улучшить чистоту поверхности полупроводниковых компонентов в процессе производства.