Высоковакуумная настольная установка магнетронного напыления с тремя мишенями Vac Coat DST3

Настольная установка DST3 представляет собой высоковакуумную систему с несколькими мишенями, предназначенную для нанесения широкого спектра материалов. Установка оснащена камерой большого объема (диаметром 300 мм) и тремя водоохлаждаемыми катодами диаметром 2 дюйма, что делает её пригодной для длительного напыления. DST3 комплектуется источниками питания постоянного (DC) и радиочастотного (РЧ) тока. Это позволяет распылять полупроводники, диэлектрики и металлы (как благородные, так и окисляющиеся). Система оснащена автоматическим согласованным устройством, минимизирующим отражённую мощность при РЧ-напылении.
 

Установка выпускается в двух исполнениях: DST3-A с наклонными катодами, имеющими общую фокальную точку (для одновременного или независимого распыления с двух-трёх мишеней при формировании сплавов или многослойных покрытий), и DST3-S с прямыми катодами (для напыления на один крупный образец диаметром до 20 см или на несколько мелких образцов). Управление осуществляется через 7-дюймовый сенсорный экран с удобным программным обеспечением, которое позволяет контролировать параметры процесса в виде цифровых данных или графиков. Журнал сохраняет информацию о последних 300 напылениях.

Преимущества

• Три водоохлаждаемых наклонных магнетронных катода диаметром 2 дюйма для получения пленок сплавов и многослойных покрытий (DST3-A)
• Крупногабаритный держатель образцов (8 дюймов) для DST3-S
• Маска катода для равномерного осаждения на крупные подложки (DST3-S)
• Два стационарных и подвижных кварцевых датчика для измерения толщины в реальном времени с точностью до 1 нм
• Подача газа через два масс-расходомера (MFC)
• Автоматический клапан напуска воздуха
• Возможность вращения, изменения высоты и наклона образца (для 3-дюймовых держателей)
• Неограниченное время осаждения без нарушения вакуума
• Двухлетняя гарантия
• Интуитивно понятный сенсорный экран для управления процессом и быстрого ввода данных
• Удобное программное обеспечение с возможностью обновления по сети
• Полуавтоматический или полностью автоматический процесс напыления (опционально)
• Повторяемый программируемый процесс напыления в автоматическом режиме
• Ручное или автоматическое осаждение по времени и по толщине
• Хранение информации для повторного воспроизведения процессов
• Выбор мишени для многослойных тонких пленок
• Автоматизированный выбор катода
• Программирование и контроль нагрева подложки через программное обеспечение
•  

Дополнительные опции

• Датчик кварцевого контроллера толщины
• Запасная стеклянная камера
• Мишени для напыления
• Уплотнительные прокладки
• Напряжение смещения на подложке (300 В, постоянный ток)
• Плазменный очиститель
• Нагрев подложки до 500 °C